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廠家直銷工業(yè)級高純導(dǎo)熱型氮化鋁
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產(chǎn)品/服務(wù): 瀏覽次數(shù):279氮化鋁 
單 價: 280.00元/千克 
起訂量: 1 千克 
供貨總量: 9999 千克
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
更新日期: 2017-08-15  有效期至:長期有效
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詳細信息

簡介

中文名稱:氮化鋁

英文名稱:Aluminum nitride

英文別名:Aluminium nitride; Aluminum nitride (AlN);[1]?nitridoaluminum; aluminum nitrogen(-3) anion

CAS:24304-00-5

EINECS:246-140-8

分子式:AlN

分子量:40.9882

密度:3.26

晶胞結(jié)構(gòu):

?

氮化鋁晶胞[2]

?

氮化鋁

說明:AlN是原子晶體,屬類金剛石氮化物,可穩(wěn)定到2200℃。室溫強度高,且強度隨溫度的升高下降較慢。導(dǎo)熱性好,熱膨脹系數(shù)小,是良好的耐熱沖擊材料???/span>熔融金屬侵蝕的能力強,是熔鑄純、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體,介電性能良好,用作電器元件也很有希望。砷化鎵表面的氮化鋁涂層,能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉(zhuǎn)變?yōu)榱⒎降鸬?/span>催化劑。室溫下與水緩慢反應(yīng).可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成,產(chǎn)物為白色到灰藍色粉末?;蛴葾l2O3-C-N2體系在1600~1750℃反應(yīng)合成,產(chǎn)物為灰白色粉末?;蚵然?/span>與氨經(jīng)氣相反應(yīng)制得.涂層可由AlCl3-NH3體系通過氣相沉積法合成。

AlN+3H2O==催化劑===Al(OH)3↓+NH

特性

(1)熱導(dǎo)率高(約320W/m·K),接近BeO和SiC,是Al2O3的5倍以上;
(2)熱膨脹系數(shù)(4.5×10-6℃)與Si(3.5~4×10-6℃)和GaAs(6×10-6℃)匹配;
(3)各種電性能(介電常數(shù)介質(zhì)損耗、體電阻率、介電強度)優(yōu)良;
(4)機械性能好,抗折強度高于Al2O3和BeO陶瓷,可以常壓燒結(jié);
(5)純度高;
(6)光傳輸特性好;
(7)無毒;
(8)可采用流延工藝制作。是一種很有前途的高功率集成電路基片和包裝材料。
應(yīng)用
有報告指現(xiàn)今大部分研究都在開發(fā)一種以半導(dǎo)體(氮化鎵或合金鋁氮化鎵)為基礎(chǔ)且運行於紫外線的發(fā)光二極管,而光的波長為250納米。在2006年5月有報告指一個無效率的二極管可發(fā)出波長為210納米的光波[1]。以真空紫外線反射率量出單一的氮化鋁晶體上有6.2eV的能隙。理論上,能隙允許一些波長為大約200納米的波通過。但在商業(yè)上實行時,需克服不少困難。氮化鋁應(yīng)用於光電工程,包括在光學(xué)儲存介面及電子基質(zhì)作誘電層,在高的導(dǎo)熱性下作晶片載體,以及作軍事用途。
由于氮化鋁壓電效應(yīng)的特性,氮化鋁晶體的外延性伸展也用於表面聲學(xué)波的探測器。而探測器則會放置於矽晶圓上。只有非常少的地方能可靠地制造這些細的薄膜。
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